昊量光電/星朗浩宇CaF2氟化鈣晶體

簡要描述：昊量光電/星朗浩宇CaF2氟化鈣晶體，CaF2晶體：為您的光學(xué)挑戰(zhàn)量身定制解決方案。作為半導(dǎo)體行業(yè)微光刻光學(xué)的既定標(biāo)準(zhǔn)，CaF2晶體在光學(xué)精度方面樹立了新的標(biāo)準(zhǔn)。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2026-09-15
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Product catalog

詳細(xì)介紹

品牌	昊量光電	價(jià)格區(qū)間	面議
組件類別	光學(xué)元件	應(yīng)用領(lǐng)域	綜合
材料	CaF2氟化鈣單晶	透射范圍	130 nm至9 μm
折射率	nd = 1.43384	阿貝數(shù)	Vd = 95.23
最大直徑	440 mm	紫外品級	193-400 nm
可見光品級	400-780 nm	紅外品級	0.78-9.00 μm

昊量光電/星朗浩宇CaF2氟化鈣晶體

CaF2晶體：為您的光學(xué)挑戰(zhàn)量身定制解決方案。

作為半導(dǎo)體行業(yè)微光刻光學(xué)的既定標(biāo)準(zhǔn)，CaF2晶體在光學(xué)精度方面樹立了新的標(biāo)準(zhǔn)。其好的性能，如在紫外線、可見光和紅外光譜中廣泛透射，以及對環(huán)境影響的高度抵抗力，使其成為科研和工業(yè)中要求高的應(yīng)用的理想選擇。

氟化鈣（CaF2）是一種久經(jīng)考驗(yàn)的光學(xué)材料：

· 寬波傳輸：在紫外、可見光和紅外波段的透射率非常高。

· 低色散：zui大限度地減少色差。

· 對電離輻射的高抵抗：可用于太空環(huán)境。

· 低非線性折射率：非常適合高功率激光應(yīng)用。

· 大直徑：對于要求較高的應(yīng)用，Max可達(dá)440毫米。

· 原材料純度高：我們種植大型高純度單晶氟化鈣。

得益于這些特性，我們的CaF2晶體是以下領(lǐng)域的優(yōu)選：

· 半導(dǎo)體行業(yè)：用于實(shí)現(xiàn)高精度的微光刻光學(xué)元件。

· 真空技術(shù)：適用于惡劣環(huán)境的堅(jiān)固真空窗口。

昊量光電/星朗浩宇CaF2氟化鈣晶體的特點(diǎn)：

特性	數(shù)值	優(yōu)勢
低折射率	nd = 1.43384	非常適合高功率激光應(yīng)用
低光譜色散	Vd = 95.23	zui大限度地減少色差
在準(zhǔn)分子激光光學(xué)元件中具有出色的耐激光性	193 nm、248 nm	激光組件使用壽命長
從深紫外到紅外范圍的高透光率及寬帶傳輸	130 nm 至 8 µm	在紫外、可見光和紅外范圍內(nèi)具有優(yōu)異的透光率
半成品可提供尺寸	Max： 440 mm	適用于要求苛刻的應(yīng)用

不同應(yīng)用領(lǐng)域下的產(chǎn)品規(guī)格：

一，IC光刻：制造設(shè)備

典型尺寸	直徑 Max 350 mm，厚度 80 mm
波長	248 nm	193nm	157nm
每 10 mm 樣品厚度內(nèi)透過率 [%]	> 99.8	> 99.7	> 99.4
折射率均勻性 PV@633nm[ppm]	1–15（取決于直徑）
應(yīng)力雙折射 PV@633nm[nm/cm]	1–20
氣泡、雜質(zhì)（ISO 10110-3）	1/1 ×0.063（典型值）

二，IC光刻：準(zhǔn)分子激光器及光束傳輸系統(tǒng)

三，非光刻技術(shù)：激光與成像光學(xué)

典型尺寸	直徑 100 mm，厚度 30 mm
Max 尺寸	直徑 Max440 mm，厚度 80 mm
可選品級	紫外品級（UV 級）：193 – 400 nm 可見光品級（VIS 級）：400 – 780 nm 紅外品級（IR 級）：0.78 – 9.00 μm
每 10 mm 樣品厚度內(nèi)透過率 [%]	> 99.0
折射率均勻性 PV@633 nm [ppm]	3 – 20
應(yīng)力雙折射 633 nm [nm/cm]	1 – 50
氣泡、雜質(zhì)（ISO 10110-3）	1/1 × 0.10（典型值）